[发明专利]用于沉积薄膜的设备和方法有效
申请号: | 201310011551.3 | 申请日: | 2013-01-11 |
公开(公告)号: | CN103215559B | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 郑石源;李勇锡;洪祥赫 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455;C23C14/22;C23C14/12 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 韩明星,刘灿强 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了一种薄膜沉积设备和一种薄膜沉积方法。薄膜沉积设备包括基底支撑单元,支撑基底;沉积源,使沉积材料蒸发以将沉积材料的蒸汽供应到基底;沉积源移动单元,使沉积源运动,从而沉积源相对于基底支撑单元相对地移动。 | ||
搜索关键词: | 用于 沉积 薄膜 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种薄膜沉积设备,所述薄膜沉积设备包括:基底支撑单元,支撑基底;沉积源,使沉积材料蒸发以将沉积材料的蒸汽供应到基底的表面上;以及沉积源移动单元,使沉积源运动,从而沉积源相对于基底支撑单元移动,其中,沉积源包括:蒸发间,在蒸发间内使沉积材料蒸发以产生沉积材料的蒸汽;喷嘴单元,具有沉积材料的蒸汽被输出到基底所经过的输出孔;蒸汽供应单元,连接蒸发间和喷嘴单元,并向喷嘴单元供应沉积材料的蒸汽;光辐射单元,放置在喷嘴单元的一侧,并辐射光以使基底的沉积有沉积材料的区域硬化;以及蒸发间移动单元,使蒸发间相对于蒸汽供应单元进行相对移动,并且使得蒸发间、蒸汽供应单元和喷嘴单元排列在同一行。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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