[发明专利]条形结构的形成方法

摘要

一种条形结构的形成方法，在所述待刻蚀材料层表面形成第一掩膜图形；以所述第一掩膜图形为掩膜，对所述待刻蚀材料层进行刻蚀，形成第一条形图形，所述第一条形图形包括若干条互相平行且均匀排列的第一条形结构；在所述第一条形结构表面形成第二掩膜图形，所述第二掩膜图形对应于第一掩膜图形的中间区域；以所述第二掩膜图形为掩膜，对所述暴露出的第一条形结构进行刻蚀，形成第二条形图形。由于先形成若干条互相平行且均匀排列的第一条形结构，使得形成的第一条形结构的刻蚀均匀性较佳，后续利用第二掩膜图形刻蚀形成第二条形结构，由于第二条形结构的位置位于第一条形结构的中间区域，第二条形结构的宽度、深度、侧壁形貌等的均匀性较佳。

主权项

一种条形结构的形成方法，其特征在于，包括：提供待刻蚀材料层，在所述待刻蚀材料层表面形成第一掩膜图形，所述第一掩膜图形包括若干条互相平行且均匀排列的条形掩膜结构，所述第一掩膜图形的总宽度大于后续形成的第二掩膜图形的总宽度，所述第一掩膜图形的总长度大于后续形成的第二掩膜图形的总长度；以所述第一掩膜图形为掩膜，对所述待刻蚀材料层进行第一刻蚀，形成第一条形图形，所述第一条形图形包括若干条互相平行且均匀排列的第一条形结构；去除所述第一掩膜图形，在所述第一条形图形上形成第二掩膜图形，所述第二掩膜图形定义出后续形成的第二条形结构的区域，且所述第二掩膜图形对应于第一条形图形的中间区域；以所述第二掩膜图形为掩膜，对所述暴露出的第一条形结构进行第二刻蚀，形成第二条形图形，其中，被第二掩膜图形覆盖的第一条形结构形成第二条形结构。