[发明专利]一种激光干涉光刻系统有效
申请号: | 201310017811.8 | 申请日: | 2013-01-17 |
公开(公告)号: | CN103092003A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 朱煜;王磊杰;张鸣;刘召;杨开明;胡金春;尹文生;穆海华;胡楚雄;徐登峰;成荣 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B26/06 |
代理公司: | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人: | 邸更岩 |
地址: | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种激光干涉光刻系统,用于大面积光栅制造的激光干涉光刻系统。该系统包括激光器、反射镜、分束器和基底台等。激光器出射的激光经反射镜、分束器后分为两束干涉光束,干涉光束经反射镜在基底台承载的基底上实现合光干涉,干涉图形通过曝光基底实现图形记录转移;为防止曝光期间图形漂移,该系统利用一种基于零差测量原理的图形锁定装置进行干涉图形相位锁定。该锁定装置包括零差相位计、电子信号处理部件、控制器、驱动器和相位调制执行器,零差相位计测量光栅图形漂移,经信号处理部件反馈至控制器,控制器经驱动器控制相位调制执行器实现相位锁定。本发明具有结构简洁、图形锁定精度高等优点,是实现大面积高精度光栅制造的关键系统。 | ||
搜索关键词: | 一种 激光 干涉 光刻 系统 | ||
【主权项】:
一种激光干涉光刻系统,包括激光器(1)、反射镜、分束器(2)、基底台(3)和基底(4);激光器(1)出射的激光经反射镜、分束器(2)后分为两束干涉光束,两束干涉光束经反射镜在基底台(3)承载的基底(4)上实现合光干涉,干涉图形通过基底曝光实现图形记录转移;其特征在于:所述系统还包括一个图形锁定系统,该图形锁定系统包括两个光束采样器(5)、零差相位计(6)、电子信号处理部件(7)、控制器(8)、驱动器(9)和相位调制执行器(10);所述的两个光束采样器(5)分别位于靠近基底处的两束干涉光路上,两个光束采样器(5)分别采取两束干涉光路上的一部分光,其中一束为参考光,另一束为测量光,参考光与测量光分别从两个入口入射至零差相位计(6)中,光信号经零差相位计(6)处理后,输出包含干涉条纹相位信息的电信号,电信号经电子信号处理部件(7)后输入至控制器(8),控制器(8)输出控制信号至驱动器(9),驱动器(9)驱动相位调制执行器(10);当干涉光刻系统的图形发生漂移时,利用该图形锁定系统控制图形漂移实现图形锁定。
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