[发明专利]等离子体处理装置以及等离子体处理方法有效
| 申请号： | 201310018419.5 | 申请日： | 2013-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN103632914A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 森本未知数;大越康雄;大平原勇造;小野哲郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立高新技术 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/3065;H01L21/311 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 发明提供一种具备供给可宽范围并且高精度地控制的进行了时间调制的高频电力的高频电源的等离子体处理装置以及使用了所述等离子体处理装置的等离子体处理方法。本发明提供一种等离子体处理装置，具备：真空容器；第1高频电源，用于在所述真空容器内生成等离子体；试样台，配置于所述真空容器内来载置试样；以及第2高频电源，对所述试样台供给高频电力，所述等离子体处理装置的特征在于：所述第1高频电源或者所述第2高频电源的至少某一个供给进行了时间调制的高频电力，控制所述时间调制的参数中的一个具有2个以上的不同的控制范围，所述控制范围中的一个是用于进行高精度的控制的控制范围。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，具备：真空容器；第1高频电源，用于在所述真空容器内生成等离子体；试样台，配置于所述真空容器内来载置试样；以及第2高频电源，对所述试样台供给高频电力，所述等离子体处理装置的特征在于：所述第1高频电源或者所述第2高频电源的至少某一个供给进行了时间调制的高频电力，控制所述时间调制的参数中的一个具有2个以上的不同的控制范围，所述控制范围中的一个是用于进行高精度的控制的控制范围。
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