[发明专利]真空成膜装置

摘要

本发明提供一种真空成膜装置，其不会损害能在基板的成膜面整面有效吸附原料气体的功能，并且能够防止装置自身设置面积大型化，其具有在真空室1内保持基板的台架（2），向该基板（W）交替供给气体的气体供给装置（3），以及排出真空室内的气体的排气装置（7）；以台架保持的所述基板的成膜面侧为上，气体供给装置具有至少一个喷嘴（31），所述喷嘴（31）配置在台架的一侧并从基板的一侧向另一侧沿该基板上面喷射所述气体的任意一种；排气装置具有开在真空室的下壁位于台架的另一侧的排气口（71），设置在该真空室的下方并与排气口连通的排气室（73），以及与排气室相连并将该排气室内抽真空的真空泵（75）。

主权项

一种真空成膜装置，其向配置在真空室内作为成膜对象的基板交替提供两种以上的原料气体，通过化学反应形成规定的薄膜，其特征在于：具有在真空室内保持基板的台架，向该基板交替供给气体的气体供给装置，以及排出真空室内的气体的排气装置；以在所述台架保持的所述基板的基板成膜面侧为上，所述气体供给装置具有至少一个喷嘴，所述喷嘴配置在台架的一侧并从基板的一侧向另一侧沿该基板上面喷射所述气体中的任意一种；所述排气装置具有开在真空室的下壁位于所述台架的另一侧的排气口，设置在该真空室的下方并与排气口连通的排气室，以及与排气室相连并将该排气室内抽真空的真空泵。