[发明专利]一种能提高LED光效的芯片加工方法无效

专利信息
申请号: 201310023352.4 申请日: 2013-01-23
公开(公告)号: CN103943744A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: 赖鸿章 申请(专利权)人: 同方光电科技有限公司;同方股份有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100083 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种能提高LED光效的芯片加工方法,涉及光电技术领域。本发明芯片加工方法步骤为:①在器件上表面进行激光划片至衬底与外延片界面附近,形成沟槽;②采用高温酸液对沟槽进行腐蚀,获得期望的形貌;③采用隐形切割工艺在器件内部正对沟槽的位置形成内划痕;④以内划痕的位置进行裂片,分为各独立的发光二级管芯片。同现有技术相比,本发明方法同时采用高温侧壁腐蚀工艺与隐形切割工艺,能更大程度的提高LED芯片的亮度。
搜索关键词: 一种 提高 led 芯片 加工 方法
【主权项】:
一种能提高LED光效的芯片加工方法,它包括衬底(1)和生长在衬底(1)上的外延片(2),其方法步骤为:①在器件上表面进行激光划片至衬底(1)与外延片(2)界面附近,形成沟槽(3);②采用高温酸液对沟槽(3)进行腐蚀,获得期望的形貌;③采用隐形切割工艺在器件内部正对沟槽(3)的位置形成内划痕(4);④以内划痕(4)的位置进行裂片,分为各独立的发光二级管芯片。
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