[发明专利]一种清洁系统和方法有效
| 申请号： | 201310027464.7 | 申请日： | 2013-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN103962347A | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 焦宇;王晏酩;刘杰 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/04 | 分类号： | B08B7/04;B08B5/00;B08B1/04 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 蒋雅洁;程立民 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种清洁系统和方法，系统包括：第一清洁装置、光学检测装置和第二清洁装置，其中，第一清洁装置用于采用气体清洁的方式对母板进行清洁；光学检测装置用于对气体清洁后的母板进行光学检测，判断所述母板上是否存在灰尘以及确定灰尘的位置坐标；第二清洁装置用于根据光学检测装置确定的灰尘的位置坐标，清除所述母板上相应位置坐标处的灰尘。采用本发明，能够有效清除母板上的灰尘，降低基板不良现象的发生，提高产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洁 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种清洁系统，其特征在于，该系统包括：第一清洁装置、光学检测装置和第二清洁装置，其中，所述第一清洁装置，用于采用气体清洁的方式对母板进行清洁；所述光学检测装置，用于对气体清洁后的母板进行光学检测，判断所述母板上是否存在灰尘以及确定灰尘的位置坐标；所述第二清洁装置，用于根据所述光学检测装置确定的灰尘的位置坐标，清除所述母板上相应位置坐标处的灰尘。
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