[发明专利]一种碱性抛光液及抛光方法有效
| 申请号： | 201310027550.8 | 申请日： | 2013-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN103965788B | 公开（公告）日： | 2017-10-13 |
| 发明（设计）人： | 周文婷;王晨;何华锋 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所11352 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于阻挡层抛光的碱性抛光液，其至少含有研磨颗粒，唑类化合物，络合剂，C1～C4季铵碱，氧化剂，调节硅片表面平整度的表面活性剂及聚羧酸烷基铵盐。该抛光液可以有效调节铜的抛光速率，控制铜细线区的侵蚀（erosion），抑制边缘过度侵蚀（edge‑over‑erosion,EOE），快速实现全局平坦化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碱性 抛光 方法 | ||
【主权项】：
一种碱性抛光液，其特征在于，包含：研磨颗粒，唑类化合物，络合剂，C1～C4季胺碱，调节硅片表面平整度的表面活性剂及聚羧酸烷基铵盐；其中，所述的C1～C4季铵碱选自四甲基氢氧化铵(TMAH)，四丁基氢氧化铵(TBAH)，丁基三甲基氢氧化铵和三丁基甲基氢氧化铵中的一种或多种；所述的调节硅片表面平整度的表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮(PVP)和/或壬基酚聚氧乙烯醚；所述的聚羧酸烷基铵盐选自聚丙烯酸烷基铵盐，聚马来酸烷基铵盐，丙烯酸和马来酸共聚物烷基铵盐中的一种或多种。
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