[发明专利]识别气态分子污染源的方法在审
| 申请号： | 201310028005.0 | 申请日： | 2013-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN103713096A | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | 庄子寿;黄正吉;周政隆;杨棋铭;林进祥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N33/00 | 分类号： | G01N33/00 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;孙征 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种识别车间中的气态分子污染(AMC)泄露源的方法。该方法包括在车间中分布传感器，进行车间中的正向气流的计算流体动力学(CFD)仿真，设定车间中的正向气流的CFD仿真的反演模型，利用车间中的AMC测量数据建立传感器的空间响应概率分布矩阵的数据库，以及利用传感器的空间响应概率分布矩阵的数据库识别AMC泄露源。 | ||
| 搜索关键词： | 识别 气态 分子 污染源 方法 | ||
【主权项】：
一种识别车间中的气态分子污染(AMC)泄露源的方法，所述方法包括：在所述车间中分布传感器；进行所述车间中的正向气流的计算流体动力学(CFD)仿真；设定所述车间中的气流的正向CFD仿真的反演模型；建立所述传感器的空间响应概率分布矩阵的数据库；以及利用AMC测量数据和所述传感器的所述空间响应概率分布矩阵的数据库识别AMC泄露源。
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