[发明专利]氮化物半导体结构及半导体发光元件有效

专利信息
申请号: 201310029644.9 申请日: 2013-01-25
公开(公告)号: CN103972340B 公开(公告)日: 2018-06-08
发明(设计)人: 吴俊德;李玉柱 申请(专利权)人: 新世纪光电股份有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/14;H01L33/32
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马雯雯;臧建明
地址: 中国台湾台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明有关于一种氮化物半导体结构及半导体发光元件。该氮化物半导体结构包含一N型半导体层以及一P型半导体层,于N型半导体层与P型半导体层间配置有一发光层,发光层与P型半导体层间配置有一空穴提供层,空穴提供层为氮化铟镓InxGa1‑xN(0<x<1),且空穴提供层掺杂有浓度为1017‑1020cm‑3的第四主族元素。该半导体发光元件于一基板上包含上述的氮化物半导体结构,以及二相配合地提供电能的N型电极与P型电极。通过掺杂第四主族元素可提高空穴浓度,并降低因Mg‑H键结所造成的不活化现象,使Mg活化而具有受体的有效作用,进而增加发光效率。
搜索关键词: 氮化物半导体 半导体发光元件 空穴 主族元素 发光层 活化 掺杂 氮化铟镓 发光效率 有效作用 基板 配置 配合
【主权项】:
一种氮化物半导体结构,其包含一N型半导体层以及一P型半导体层,于所述N型半导体层与所述P型半导体层间配置有一发光层,所述发光层与所述P型半导体层间配置有一空穴提供层,所述空穴提供层紧邻所述发光层,且所述空穴提供层为氮化铟镓InxGa1‑xN,其中0<x<1,且所述空穴提供层掺杂有浓度为1017‑1020cm‑3的第四主族元素;所述空穴提供层与所述P型半导体层间配置有一P型载子阻隔层,且所述P型载子阻隔层由具有高于所述发光层的能隙的材料所制成;所述第四主族元素为碳;所述空穴提供层掺杂有浓度大于1018cm‑3的P型掺质;所述P型掺质为镁。
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