[发明专利]包含纳米结构抗反膜的晶体硅太阳能电池及其制备方法有效
申请号: | 201310029855.2 | 申请日: | 2013-01-25 |
公开(公告)号: | CN103035752A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 张宇翔;朱煜;黄寓洋;宋贺伦;张耀辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/04;H01L31/18 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 杨林;马翠平 |
地址: | 215123 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 一种包含纳米结构抗反膜的晶体硅太阳能电池,包括自下而上的金属背场与背电极、单晶硅基体、PN结有源层、抗反膜、及栅电极,其特征在于,所述抗反膜有若干层,自下而上的抗反膜的折射率逐渐减小。其制备方法是采用斜角入射物理沉积法,通过调整入射角度和沉积材料,生成多层折射率不同的抗反膜。本发明大大优化了硅太阳能电池的光吸收,从而提高了电池效率。这种方法不会损伤硅晶体本身的光伏特性,能够真正将多吸收的光转化为电能。提高光转化效率,将极大地推动太阳能电池产品的发展。 | ||
搜索关键词: | 包含 纳米 结构 抗反膜 晶体 太阳能电池 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种包含纳米结构抗反膜的晶体硅太阳能电池,包括自下而上的金属背场与背电极、单晶硅基体、PN结有源层、抗反膜、及栅电极,其特征在于,所述抗反膜有若干层,自下而上的抗反膜的折射率逐渐减小。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的