[发明专利]包含纳米结构抗反膜的晶体硅太阳能电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310029855.2 申请日: 2013-01-25
公开(公告)号: CN103035752A 公开(公告)日: 2013-04-10
发明(设计)人: 张宇翔;朱煜;黄寓洋;宋贺伦;张耀辉 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/04;H01L31/18
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 杨林;马翠平
地址: 215123 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种包含纳米结构抗反膜的晶体硅太阳能电池,包括自下而上的金属背场与背电极、单晶硅基体、PN结有源层、抗反膜、及栅电极,其特征在于,所述抗反膜有若干层,自下而上的抗反膜的折射率逐渐减小。其制备方法是采用斜角入射物理沉积法,通过调整入射角度和沉积材料,生成多层折射率不同的抗反膜。本发明大大优化了硅太阳能电池的光吸收,从而提高了电池效率。这种方法不会损伤硅晶体本身的光伏特性,能够真正将多吸收的光转化为电能。提高光转化效率,将极大地推动太阳能电池产品的发展。
搜索关键词: 包含 纳米 结构 抗反膜 晶体 太阳能电池 及其 制备 方法
【主权项】:
一种包含纳米结构抗反膜的晶体硅太阳能电池,包括自下而上的金属背场与背电极、单晶硅基体、PN结有源层、抗反膜、及栅电极,其特征在于,所述抗反膜有若干层,自下而上的抗反膜的折射率逐渐减小。
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