[发明专利]用来减低镜片加热现象的光掩膜有效
申请号: | 201310031922.4 | 申请日: | 2013-01-28 |
公开(公告)号: | CN103293846A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 周建明;安东·戴佛乐;艾瑞克·拜尔斯 | 申请(专利权)人: | 南亚科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/26 | 分类号: | G03F1/26;G03F1/70;G03F1/76 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 江耀纯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明公开了一种减缓透镜加热用的光掩膜,其包括基板、目标图案和重分配图案。基板包括有效的图案区域,目标图案则位于有效的图案区域中,而用来将目标图案建立到晶圆上。重分配图案也位于有效的图案区域中,而用来将能量重新分配至镜片上,但是又不会被转印至晶圆上,所以不会在将目标图案建立至晶圆上时反而改掉了目标图案。 | ||
搜索关键词: | 用来 减低 镜片 加热 现象 光掩膜 | ||
【主权项】:
一种减轻透镜加热用的光掩膜,其特征在于,包含:一基板,其包括有效的图案区域;位于所述有效的图案区域中的一目标图案,用来将所述目标图案建立到一晶圆上;以及一重分配图案,位于所述有效的图案区域中,用来将能量重新分配至一镜片而不会被转印至所述晶圆上,也不会在将所述目标图案建立至所述晶圆上时修改所述目标图案。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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