[发明专利]一种高浓度Nd掺杂YAG激光晶体生长方法无效

专利信息
申请号: 201310040188.8 申请日: 2013-02-01
公开(公告)号: CN103074685A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 王彪;权纪亮;朱允中;马德才;杨名鸣 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: C30B29/28 分类号: C30B29/28;C30B15/00
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 林伟斌
地址: 510275 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开一种高浓度Nd掺杂YAG激光晶体生长方法,该方法基于中频感应激光晶体炉,该方法涉及掺钕钇铝石榴石工艺领域,包括七个步骤4个阶段的生长方法。本发明所提供的高浓度Nd掺杂YAG激光晶体生长方法可获得直径Ф25~45mm、掺钕浓度1.17~1.41at%、浓度梯度小、散射颗粒少、质量较高的Nd:YAG激光晶体,工艺稳定,晶体成炉率较高,具有很好的应用前景。
搜索关键词: 一种 浓度 nd 掺杂 yag 激光 晶体生长 方法
【主权项】:
一种高浓度Nd掺杂YAG激光晶体生长方法,该方法基于中频感应激光晶体炉,其特征在于,包括步骤:S1.将纯度大于或等于99.999%的氧化钇Y2O3、氧化铝Al2O3、氧化钕Nd2O3在600~800℃下灼烧4~8小时,再按预设的掺钕浓度进行计算、称量配置成底料; S2.将步骤S1中配好的底料装入塑料瓶中,固定在混料机上充分混合24~48小时;S3.将步骤S2中混合均匀的粉料放入乳胶模具中,密封后再通过200~300MPa等静压成型;S4.将籽晶放入所需采用的铱坩埚籽晶杆中;S5.将成型的原料放入直径60~120mm的铱坩埚中,调整好线圈、保温系统、籽晶、铱坩埚的同心度后抽真空,当炉体真空度达到3.5~4.5Pa时冲入氩气;S6. 启动中频感应激光晶体炉使炉膛内的加热系统升温,待步骤S5 中所述铱坩埚中的原料全部熔化后,熔体液流线清晰稳定时开始缓慢下籽晶,从下籽晶到籽晶接触液面处经历时间约1~2小时,调节熔体温度使籽晶直径缩小1~2mm时恒温1~2小时;S7. 提拉籽晶,开始晶体生长,其生长方向为<111>,晶体生长包括4个阶段:放肩阶段,放肩时晶升速率为0.6~0.7mm/h,晶转速率为16~18转/分钟,放肩角度控制在40o~50o,在晶体放肩生长后期要逐步减慢晶升速率至0.5~0.55mm/h,降低晶转速率至14~15转/分钟,降温速率要平缓,当放肩处直径与晶体目标直径相差2~4mm时,开始恒温;等经生长阶段,晶体恒温生长15~48小时后进入等径生长阶段,晶升速率随着晶体等径生长的长度增加而减慢至0.4~0.45mm/h, 晶转速率缓慢减小至12~13转/分钟,晶体生长温控速率幅度不可过大,使晶体直径偏差控制在1 ~2mm之内;收尾阶段,晶体生长达到预定长度后开始升温收尾,随着晶体直径的变小慢慢提高晶升速率至0.6~0.65mm/h, 晶转速率也要逐步减慢至9~11转/分钟,晶体直径缩至4~6mm左右时,再进行等径生长8~10小时,最后降温使晶体直径变大扩成一个“盖”型,以防止晶体开裂和保护坩埚;降温阶段,晶体生长结束后以10~70℃速率降低铱坩埚内生长区的温度,直到室温。
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