[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201310040806.9 申请日: 2013-01-31
公开(公告)号: CN103094287A 公开(公告)日: 2013-05-08
发明(设计)人: 张家祥;郭建 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,可以减少所使用的光刻掩膜版的数量,减少阵列基板的制造成本,进而减少显示装置的制造成本。该方法包括:在非感光树脂层上形成透明导电薄膜,并对透明导电薄膜进行构图工艺,形成第一透明导电层的图案;以第一透明导电层为掩膜版,依次对非感光树脂层和所述保护层进行构图工艺,形成包括过孔的非感光树脂层和保护层的图案;在第一透明导电层上和过孔的内侧壁上形成绝缘层;在绝缘层上以及覆盖有所述绝缘层的过孔的内侧壁及过孔的底部覆盖上第二透明导电层,以使得第二透明导电层与源漏电极层的漏极相接触。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,自下而上依次包括:基板、栅极层、栅极绝缘层、有源层、源漏电极层、保护层和非感光树脂层,其特征在于,所述保护层和所述非感光树脂层上具有过孔,所述过孔位于漏极上方;在所述非感光树脂层之上,所述阵列基板还包括:第一透明导电层,覆盖除所述过孔区域外的所述非感光树脂层;绝缘层,覆盖所述第一透明导电层和所述过孔的内侧壁;第二透明导电层,位于所述绝缘层上,并通过所述过孔与所述源漏电极层的漏极相接触。
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