[发明专利]一种解决高温下衬底原子蒸发影响平整度的方法及装置有效
| 申请号： | 201310041952.3 | 申请日： | 2013-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN103966551B | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | 董国材 | 申请（专利权）人： | 常州国成新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C16/46 |
| 代理公司： | 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 | 代理人： | 赵凯 |
| 地址： | 213000 江苏省常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于薄膜生长或薄膜制备领域，更确切地说涉及在衬底上进行沉积或喷镀等方法进行薄膜制备的领域以及类似装置。本发明的内容是提供一种解决高温下衬底原子流失影响平整度的设计方案；本发明利用加热装置(1)来加热衬底(2)至薄膜(3)生长所需的温度，在薄膜生长的过程中利用补偿蒸发源(4)来蒸发同衬底相同材料以补偿其在薄膜生长过程中因为热蒸发所流失的衬底表面材料(5)，从而有效避免衬底在高温下的蒸发造成的成膜形貌缺陷，可以生长出平整的、高质量的薄膜材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 解决 高温 衬底 原子 蒸发 影响 平整 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种解决高温下衬底原子流失影响平整度的方法，其特征在于：通过在衬底反方向安置与衬底同材料的补偿蒸发源，利用加热装置来加热衬底至薄膜生长所需的温度，在薄膜生长的过程中利用补偿蒸发源来蒸发与衬底相同的材料，以补偿衬底因为热蒸发所产生的表面原子流失，使衬底表面原子蒸发与吸收达到动态平衡，此时衬底的表面平整度可以在生长过程中保持平整，可有效避免衬底在高温下的蒸发造成的镀膜形貌缺陷，从而生长出平整的、高质量薄膜材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州国成新材料科技有限公司，未经常州国成新材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310041952.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
