[发明专利]一种亚波长光栅周期的测量器件有效

专利信息
申请号: 201310042037.6 申请日: 2013-02-04
公开(公告)号: CN103076162A 公开(公告)日: 2013-05-01
发明(设计)人: 罗先刚;赵泽宇;王长涛;王彦钦;陶兴;姚纳;蒲明薄;杨欢;刘利芹;罗云飞 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 梁爱荣
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种亚波长光栅周期的测量器件,由标准光栅和金属介质多层膜组成,金属-介质多层膜由多层介质层和多层金属层为相间隔放置;介质层的上层位于标准光栅的下方,金属层的底层位于待测光栅上方,将电场方向与标准光栅方向垂直的线偏振入射光照射到标准光栅上,标准光栅产生多级携带高空间频率的衍射波,并通过金属介质多层膜滤波;滤过透射波与待测光栅差频形成能观测的长周期干涉条纹;最后观察测量干涉条纹并确定待测光栅周期。
搜索关键词: 一种 波长 光栅 周期 测量 器件
【主权项】:
一种亚波长光栅周期的测量器件,其特征在于:由标准光栅和金属介质多层膜组成,金属‑介质多层膜由多层介质层和多层金属层为相间隔放置;介质层的上层位于标准光栅的下方,金属层的底层位于待测光栅上方,将电场方向与标准光栅方向垂直的线偏振入射光照射到标准光栅上,标准光栅产生多级携带高空间频率的衍射波,并通过金属介质多层膜滤波;滤过透射波与待测光栅差频形成能观测的长周期干涉条纹;最后观察测量干涉条纹并确定待测光栅周期。
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