[发明专利]一种液相球磨部分还原法制备催化剂的方法及三元铜催化剂有效
申请号: | 201310044019.1 | 申请日: | 2013-02-04 |
公开(公告)号: | CN103127936A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 苏发兵;王莹利;宋莲英;翟世辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院过程工程研究所 |
主分类号: | B01J23/72 | 分类号: | B01J23/72;C07F7/16 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种液相球磨部分还原法制备用于二甲基二氯硅烷合成反应的铜基催化剂的方法。所述方法包括以下步骤:以氧化铜为原料,加入含有还原性物质的溶剂介质,通过机械球磨,使氧化铜颗粒变小并部分还原,经过抽滤、干燥和粉碎后,得到含有铜、氧化亚铜和氧化铜三元组分的铜基催化剂。通过调整还原剂种类和浓度、球磨条件等参数,得到组成可调、粒度可控的三元铜催化剂。该催化剂在有机硅单体合成的催化反应中,具有较高的催化活性和选择性,有助于提高现有有机硅单体设备的处理能力,降低生产成本,提高目标产物的收率。本发明提出的制备方法工艺简单、条件温和、操作简便,易于实现规模化生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 液相球磨 部分 还原法 制备 催化剂 方法 三元 | ||
【主权项】:
一种三元铜基催化剂的制备方法,包括:将氧化铜与还原性物质加入至溶剂中,研磨反应,除杂,粉碎,得到三元铜基催化剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院过程工程研究所,未经中国科学院过程工程研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310044019.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。