[发明专利]一种两自由度大负载跟踪稳定平台系统有效

专利信息
申请号: 201310045028.2 申请日: 2013-02-04
公开(公告)号: CN103149948A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 周向阳;张宏燕;房建成 申请(专利权)人: 北京航空航天大学
主分类号: G05D3/12 分类号: G05D3/12;G01C21/18
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 成金玉;卢纪
地址: 100191*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种两自由度大负载跟踪稳定平台系统,包括基座、四个线振动减振器、方位框架、俯仰框架、任务载荷(光电成像器件、两支MEMS加速度计、两支MEMS陀螺仪、POS)、两部有刷直流力矩电机、两支光电码盘、两框架控制电路。基座通过线振动减振器与飞机相连,隔离飞机线振动。方位框架由基座支承,并承载俯仰框组件,实现0°至360°内回转;俯仰框架由方位框支承,并承载任务载荷,实现-90°至0°回转。控制部分根据陀螺仪提供的框架角速率信息以及POS或加速度计提供的姿态信息驱动电机转动框架,补偿隔离飞机角运动。本发明具有精度高、承载/自重比大的特点并具有自身姿态基准,适用于轻小型航空监控系统中相机视轴的稳定。
搜索关键词: 一种 自由度 负载 跟踪 稳定 平台 系统
【主权项】:
一种两自由度大负载跟踪稳定平台系统,其特征在于包括结构系统、动力系统及控制系统;所述的结构系统包括四个线振动减振器(2)、基座(1)、方位框架(6)和俯仰框架(10);所述的动力系统均采用有刷直流力矩电机+减速齿轮系统,包括方位有刷直流力矩电机(4)和方位减速齿轮(20),用于驱动方位框架(6);俯仰有刷直流力矩电机(15)和俯仰减速齿轮(16),用于驱动俯仰框架(10);所述控制系统包括测量组件和控制电路,测量组件包括光电成像器件(17)、位置姿态测量系统POS(11)、两支MEMS陀螺仪(13)、一支MEMS加速度计(8)、方位光电码盘(3)、俯仰光电码盘(7);控制电路的电路板集中安装在电路箱(5)内,且电缆线路从方位轴系(18)、俯仰轴系(14)内部穿过;光电成像器件(17)、位置姿态测量系统POS(11)、陀螺仪(13)、加速度计(8)通过俯仰轴系(14)支承安装在方位框架(6)内,方位框架(6)通过方位轴系(18)支承吊于基座(1)下,基座(1)采用圆周封闭的整体式环形硬铝合金结构通过四个线振动减振器(2)坐安装底板(19)上。所述的方位框架(6)、俯仰框架(10)由外到内分布,两框架回转轴线正交于一点;方位框架(6)采用封闭的整体式U形结构,通过方位轴系(18)支承吊于在基座(1)下,绕方位轴系(18)实现0°至360°旋转,并由方位光电码盘(3)测量方位框架(6)和基座(1)的相对转角;俯仰框架(10)采用开放的整体式方形结构,通过俯仰轴系(14)支承安装在方位框架(6)内,绕俯仰轴系(14)实现‑90°至0°旋转,并由俯仰光电码盘(7)测量俯仰框架(10)和方位框架(6)的相对转角;方位框架(6)隔离基座方位角速率,俯仰框架(10)隔离基座滚转角速率;实现抵消干扰力矩,实时稳定和调整俯仰框架上的光电成像器件视轴的目的。
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