[发明专利]一种具有干涉条纹的微结构颗粒的制备方法无效
申请号: | 201310046550.2 | 申请日: | 2013-02-05 |
公开(公告)号: | CN103965680A | 公开(公告)日: | 2014-08-06 |
发明(设计)人: | 沈欣;饶道军;余勇 | 申请(专利权)人: | 上海盛业印刷有限公司 |
主分类号: | C09D11/03 | 分类号: | C09D11/03;C09D7/12;G03F7/00 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 叶敏华 |
地址: | 201601 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种具有干涉条纹的微结构颗粒的制备方法,包括以下步骤:在基片上涂覆一层可模压成型的剥离胶层;在剥离胶层表面沉积光学薄膜;在光学薄膜的表面涂覆塑料层;模压塑料层使之产生干涉条纹;制作具有微结构图形的模板;采用具有微结构图形的模板,冲压基片,使得基片上面的塑料层及光学薄膜被压制断裂成与微结构图形一样的微结构颗粒,该颗粒通过剥离胶层粘贴在基片上;将微结构颗粒从基片上剥离下来。与现有技术相比,本发明采用金属模版冲压工艺,使得微结构颗粒制造能够规模化;本发明的微结构颗粒具有广泛的应用领域,能直接添加到基材内,或者通过添加到油墨或涂料中,印刷到包装材料上起到防伪作用。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 干涉 条纹 微结构 颗粒 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种具有干涉条纹的微结构颗粒的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:(1)在基片上涂覆一层可模压成型的剥离胶层;(2)在剥离胶层表面沉积光学薄膜;(3)在光学薄膜的表面涂覆塑料层;(4)模压塑料层使之产生干涉条纹;(5)制作具有微结构图形的模板;(6)采用具有微结构图形的模板,冲压基片,使得基片上面的塑料层及光学薄膜被压制断裂成与微结构图形一样的微结构颗粒,该颗粒通过剥离胶层粘贴在基片上;(7)将微结构颗粒从基片上剥离下来。
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