[发明专利]电子束描绘装置及电子束描绘方法有效
| 申请号： | 201310047452.0 | 申请日： | 2013-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN103257528A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 东矢高尚;中山贵仁 | 申请（专利权）人： | 纽富来科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01J37/317;B82Y10/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐冰冰;刘杰 |
| 地址： | 日本日*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种电子束描绘装置及电子束描绘方法，该电子束描绘装置（100）具有：XY载物台（105），载放试样（216）；以及电子镜筒（102），配置有出射电子束（200）的电子枪（201）和具备排列在电子束（200）的轴向上的电极的透镜（202、204、207、210）。在XY载物台（105）和电子镜筒（102）之间设置有屏蔽板（211），该屏蔽板（211）屏蔽电子束（200）向试样（216）照射而产生的反射电子或二次电子。在屏蔽板（211）的正上方配置有改变电子束（200）的焦点位置的静电透镜（210），始终从电压供给单元（135）对静电透镜（210）施加正电压。 | ||
| 搜索关键词： | 电子束 描绘 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种电子束描绘装置，其特征在于，具有：载物台，载放试样；电子镜筒，配置有出射电子束的电子枪和具备排列在所述电子束的轴向上的电极的静电透镜；以及电压供给单元，始终对所述静电透镜施加正电压。
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