[发明专利]微结构导电图案成型方法及系统有效
| 申请号： | 201310048605.3 | 申请日： | 2013-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN103197793A | 公开（公告）日： | 2013-07-10 |
| 发明（设计）人： | 顾莹 | 申请（专利权）人： | 南昌欧菲光科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041;G03F7/00;B41J2/01 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 邓云鹏 |
| 地址： | 330000 江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种微结构导电图案成型方法，用于在基板上形成微结构导电图案，包括以下步骤：在所述基板上涂覆光刻胶，所述光刻胶在所述基板的一表面上形成光胶层；对所述光胶层进行曝光及显影，以在所述光胶层上形成与所述微结构导电图案相一致的凹槽；在所述光胶层上印刷导电油墨，所述导电油墨进入所述凹槽中；烘干所述导电油墨，并清洗所述基板表面上剩余的所述光胶层，最终在所述基板上形成所述微结构导电图案。上述微结构导电图案成型方法，其工艺较为简单，步骤较少，节约了人力物力，并提高了产品的良率。同时，还提供了一种微结构导电图案成型系统。 | ||
| 搜索关键词： | 微结构 导电 图案 成型 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种微结构导电图案成型方法，用于在基板上形成微结构导电图案，其特征在于，包括以下步骤：在所述基板上涂覆光刻胶，所述光刻胶在所述基板的一表面上形成光胶层；对所述光胶层进行曝光及显影，以在所述光胶层上形成与所述微结构导电图案相一致的凹槽；在所述光胶层上印刷导电油墨，所述导电油墨进入所述凹槽中；及烘干所述导电油墨，并清洗所述基板表面上剩余的所述光胶层，最终在所述基板上形成所述微结构导电图案。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南昌欧菲光科技有限公司，未经南昌欧菲光科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310048605.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
