[发明专利]抗反射基板结构及其制作方法

摘要

本发明公开一种抗反射基板结构及其制作方法。提供一硅晶片。硅晶片具有一第一粗糙表面。形成一抗反射光学膜于硅晶片上。抗反射光学膜共形地覆盖第一粗糙表面。对抗反射光学膜进行一表面处理，以使抗反射光学膜具有一亲水性表面。亲水性表面相对远离硅晶片。于抗反射光学膜的亲水性表面上滴上一胶体溶液。胶体溶液包括一溶液以及多个纳米球。纳米球附着于亲水性表面上。以纳米球为蚀刻掩模，对抗反射光学膜的亲水性表面进行一蚀刻制作工艺，而形成一第二粗糙表面。第二粗糙表面的粗糙度不同于第一粗糙表面的粗糙度。

主权项

一种抗反射基板结构的制作方法，包括：提供一硅晶片，该硅晶片具有一第一粗糙表面；形成一抗反射光学膜于该硅晶片上，该抗反射光学膜共形地覆盖该第一粗糙表面；对该抗反射光学膜进行一表面处理，以使该抗反射光学膜具有一亲水性表面，其中该亲水性表面相对远离该硅晶片；于该抗反射光学膜的该亲水性表面上滴上一胶体溶液，其中该胶体溶液包括一溶液以及多个纳米球，该些纳米球附着于该亲水性表面上；以及以该些纳米球为蚀刻掩模，对该抗反射光学膜的该亲水性表面进行一蚀刻制作工艺，而形成一第二粗糙表面，其中该第二粗糙表面的粗糙度不同于该第一粗糙表面的粗糙度。