[发明专利]半导体设置及其制造方法在审
申请号: | 201310050109.1 | 申请日: | 2013-02-08 |
公开(公告)号: | CN103985752A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 朱慧珑 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/423;H01L21/336;H01L21/28 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 倪斌 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请公开了一种半导体设置及其制造方法。一示例设置可以包括:衬底;在衬底上形成的背栅;在背栅的相对两侧由衬底中半导体的一部分形成的鳍;以及夹于背栅与各鳍之间的背栅介质层。 | ||
搜索关键词: | 半导体 设置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体设置,包括:衬底;在衬底上形成的背栅;在背栅的相对两侧由衬底中半导体的一部分形成的鳍;以及夹于背栅与各鳍之间的背栅介质层。
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