[发明专利]等离子体处理装置及等离子体的监视方法有效
| 申请号： | 201310051211.3 | 申请日： | 2013-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN103258706A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 藤野丰;福田良则;北川淳一;山本伸彦 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置，其为从多个部位向处理容器内导入微波的方式的等离子体处理装置，分别监视通过多个微波生成的多个等离子体的状态。等离子体处理装置（1）具备将微波导入处理容器（2）内的微波导入装置（5）。微波导入装置（5）具有与顶部（11）的多个开口部嵌合的多个微波透过板（73）。发光传感器（92）分别设于微波导入装置（5）的各天线模块（61）。发光传感器（92）经由微波透过板（73）检测在微波透过板（73）的正下方的处理容器（2）内生成的等离子体的特定波长的发光。检测对象的波长基于通过从彼此相邻的两个微波透过板（73）分别导入的微波生成的两个等离子体的发光强度之比而被选择。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 监视 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：收容被处理体的处理容器；载置台，其设置于所述处理容器的内部，具有载置所述被处理体的载置面；气体供给机构，其向所述处理容器内供给处理气体；多个微波导入模块，其将用于在所述处理容器内生成等离子体的微波分别导入所述处理容器内；多个发光传感器，其为了基于根据在所述处理容器内进行的等离子体处理的条件预先选择的对象波长来检测每个所述微波导入模块生成的等离子体的发光，而与所述多个微波导入模块分别对应设置；和控制部，其基于所述多个发光传感器的检测数据，分别监视所述多个等离子体的状态。
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