[发明专利]气体注入器和具有气体注入器的膜沉积设备无效
申请号: | 201310052664.8 | 申请日: | 2008-12-30 |
公开(公告)号: | CN103147068A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 李亨燮;南宫晟泰;李圭桓;权宁浩;李昌宰 | 申请(专利权)人: | 周星工程股份有限公司;ADS有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 林彦 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种气体注入器和具有所述气体注入器的膜沉积设备。所述气体注入器包含主体、供应孔、注入孔以及分配板。所述主体经配置以在其中提供内部空间。所述供应孔形成于所述主体的上表面中以与所述内部空间连通并接收原材料。所述注入孔形成于所述主体的下表面中以与所述内部空间连通并注入所述原材料。所述分配板安置在所述主体的所述内部空间中。通孔形成于所述分配板中。所述分配板安置为相对于水平平面以预定角度倾斜。所述气体注入器可均匀注入所述原材料并提高具有粉末形式的原材料的气化效率。 | ||
搜索关键词: | 气体 注入 具有 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种气体注入器,其包括:加热单元,其经配置以将原材料气化;以及注入单元,其包括提供于所述加热单元下方的内部空间,其中来自所述加热单元的气化原材料被接收到所述内部空间中并保持在其中,且气体注入通路与所述内部空间连通从而以穿透方式朝向所述气体注入单元的下表面延伸,其中所述气体注入通路的一个末端形成于所述内部空间的侧壁上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于周星工程股份有限公司;ADS有限公司,未经周星工程股份有限公司;ADS有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310052664.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种传动齿轮
- 下一篇:一种旋转螺母的丝杆传动结构
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的