[发明专利]蒸发源装置及真空蒸镀装置、以及有机EL显示装置的制造方法无效

专利信息
申请号: 201310054787.5 申请日: 2013-02-20
公开(公告)号: CN103305796A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: 三宅龙也;松浦宏育;峰川英明;矢崎秋夫;尾方智彦;山本健一;楠敏明;玉腰武司 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/12;C23C14/52;H01L51/56
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张敬强;严星铁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供能在大型基板上快速地形成膜厚均匀且有机EL上部电极用的铝金属薄膜,并能长时间连续运转的真空蒸镀装置及成膜装置。通过使用陶瓷制的坩埚防止铝的攀爬,并使用在横向上操作沿纵向排列有在相同方向上以规定的角度倾斜的蒸发源(3-1)的蒸发源列(3-2)并进行蒸镀的机构,能够相对于大型的纵置基板(1-1)快速形成有机EL上部电极用金属薄膜,并使用材料供给机进行长时间的连续成膜。
搜索关键词: 蒸发 装置 真空 以及 有机 el 显示装置 制造 方法
【主权项】:
一种蒸发源装置,其特征在于,具备:蒸发源列,其由多个在纵向上排列的蒸发源构成,各蒸发源的一部分为了喷出蒸气而开口,各自的长轴相对于水平方向以规定的角度在相同方向上倾斜;以及多个膜厚监视器,其与各个上述蒸发源对应地设置为与上述蒸发源相同的数量,对来自各个上述蒸发源的蒸镀材料的膜厚进行计测。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术,未经株式会社日立高新技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310054787.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top