[发明专利]二氧化硅溶液制备方法、研磨液及玻璃基板的制造方法

摘要

本发明提供二氧化硅溶液制备方法、研磨液及玻璃基板的制造方法。一种二氧化硅溶液制备方法，其为将异物从含有一次粒径为1～80nm的二氧化硅粒子的二氧化硅溶液中除去的二氧化硅溶液制备方法，其中，对离心加速度G、沉降距离与沉降时间之比h/t和上述溶液的粘度η进行控制，以使被除去的异物的粒径Dp为0.1～1μm；一种研磨液，在磁记录介质用玻璃基板的主平面的研磨中使用，其中，含有通过使被除去的异物的粒径Dp为0.1～1μm的二氧化硅溶液制备方法制备的二氧化硅溶液；以及一种磁记录介质用玻璃基板的制造方法，其中，具有使用该研磨液对主平面进行研磨的工序。

主权项

一种二氧化硅溶液制备方法，从含有一次粒径为1~80nm的二氧化硅粒子的二氧化硅溶液中除去异物，其特征在于，对离心加速度G、异物的沉降距离与沉降时间之比(h/t)和所述二氧化硅溶液的粘度η进行控制，以使由下式(1)表示的、要除去的异物的粒径Dp为0.1×1‑41×10‑4cm，Dp=[18h·η/{(ρp‑ρf)G·t}]1/2…(1)其中，式(1)中，Dp为异物的粒径(cm)，h为异物的沉降距离(cm)，η为溶液在处理温度下的粘度(g/cm·s)，ρp为异物的密度(g/cm3)，ρf为溶剂的密度(g/cm3)，G为离心加速度(cm/s2)，t为异物的沉降时间(s)。