[发明专利]氮化镓基板以及使用了该氮化镓基板的光设备有效
| 申请号： | 201310059764.3 | 申请日： | 2013-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN103296171B | 公开（公告）日： | 2017-10-24 |
| 发明（设计）人： | 山本俊辅 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | H01L33/32 | 分类号： | H01L33/32 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司11243 | 代理人： | 钟晶,於毓桢 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供基板表面的碳的残存少的氮化镓基板。作为解决本发明课题的方法涉及一种氮化镓基板，其为在针对于氮化镓基板的表面的、扫描型电子显微镜(SEMScanning Electron Microscope)的加速电压设为3kV时的能量色散型X射线分析(EDXEnergy Dispersive X‑ray microanalysis)中，通过EDX而获得的EDX谱图的GaLα/CKα的峰强度比为2以上的氮化镓基板。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化 镓基板 以及 使用 设备 | ||
【主权项】：
一种氮化镓基板，其特征在于，在针对于氮化镓基板的表面的、扫描型电子显微镜(SEM：Scanning Electron Microscope)的加速电压设为3kV时的能量色散型X射线分析(EDX：Energy Dispersive X‑ray microanalysis)中，通过所述EDX而获得的EDX谱图的GaLα/CKα的峰强度比为2以上，其中，对于所述氮化镓基板，在通过蜡固定的状态下使用金刚石磨料进行了磨削和研磨，然后，进行了去除所述蜡的洗涤以及去除所述蜡和所述金刚石磨料的湿法蚀刻。
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