[发明专利]一种霍山石斛的组织培养方法无效

专利信息
申请号: 201310061664.4 申请日: 2013-02-28
公开(公告)号: CN104012400A 公开(公告)日: 2014-09-03
发明(设计)人: 毛健;姬中伟;张敏;牟穰;阳志锐;郭燕飞;黎卫;冯东阳;巩丹;刘芸雅 申请(专利权)人: 江南大学
主分类号: A01H4/00 分类号: A01H4/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 214122 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及到一种霍山石斛的组织培养方法,将带侧芽的霍山石斛茎段用清洗干净后,经一定的消毒程序之后,转移到无菌操作台上去除叶片及膜质叶鞘,进一步消毒处理后放置在无菌的培养皿中;将保存的幼芽接种到幼芽增殖培养基中,进行幼芽的诱导和增殖;将生长状况良好的幼芽接种到生根培养基上,培养温度25℃,光照强度2000lx,光照时间12h/d条件下培养,获得生长状况良好的培苗,经过炼苗、栽种后,植株的成活率达到90%以上,这表明通过组织培养,建立无性快速繁殖体系,提高繁殖系数,能达到短裙内获得大量霍山石斛培苗的目的。
搜索关键词: 一种 霍山 石斛 组织培养 方法
【主权项】:
一种霍山石斛的组织培养方法,其特征在于以带侧芽的霍山石斛茎段位母体,并经过下列步骤: A.将茎段经过水洗、75%的酒精浸泡1~2min、无菌水洗后,转移到无菌超净台上去除叶片及膜质叶鞘,再次经过0.1%HgCl2加1滴吐温80消毒5~10min后,无菌水洗后无菌保存; B.将保存的幼芽接种到幼芽增殖培养基中,进行幼芽的诱导和增殖; C.将生长状况良好的幼芽接种到生根培养基上,培养温度25~28℃,光照强度2000lx,光照时间12~14h/d条件下培养; D.获得生长状况良好的培苗,将培苗取出,洗净根部的培养基,在木屑的基质中栽培,保持适当的通风和足够的湿度,获得种苗。 
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