[发明专利]待测光学系统杂散光检测方法及杂散光检测系统无效
| 申请号： | 201310061851.2 | 申请日： | 2013-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN103149016A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 潘亮;张周锋;赵建科;徐亮;田留德;刘峰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 姚敏杰 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种待测光学系统杂散光检测方法及杂散光检测系统，该方法包括以下步骤：1）获取待测光学系统在不同视场角的像面的辐射照度；2）将待测光学系统更换为衰减片并获取含有该衰减片的辐射照度；3）根据步骤2）所得到的含有该衰减片的辐射照度获取待测光学系统在入瞳处的辐射照度；4）根据步骤1）以及步骤3）获取待测光学系统的点源透过率。本发明提供了一种能够对被测光系统杂散光抑制水平进行客观评价，避免目前采用杂散光系数评价的不确定性的待测光学系统杂散光检测方法及杂散光检测系统。 | ||
| 搜索关键词： | 测光 系统 散光 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种待测光学系统杂散光检测方法，其特征在于：所述待测光学系统杂散光检测方法包括以下步骤：1）获取待测光学系统在不同视场角的像面的辐射照度；2）将待测光学系统更换为衰减片并获取含有该衰减片的辐射照度；3）根据步骤2）所得到的含有该衰减片的辐射照度获取待测光学系统在入瞳处的辐射照度；4）根据步骤1）以及步骤3）获取待测光学系统的点源透过率。
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