[发明专利]圆筒形掩模板系统、曝光装置和曝光方法有效

专利信息
申请号: 201310069922.3 申请日: 2013-03-05
公开(公告)号: CN104035286A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 伍强;刘畅;郝静安 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F1/42;G03F1/44;G03F9/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 骆苏华
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种圆筒形掩模板系统、曝光装置和曝光方法,其中曝光装置,包括:基台;晶圆载物台组,晶圆载物台组包括若干晶圆载物台,若干晶圆载物台依次在基台上的第一位置和第二位置之间循环移动;对准检测单元,进行晶圆的对准;圆筒形掩模板系统,装载圆筒形掩膜板,并使所述圆筒形掩膜板绕中心轴旋转;光学投影单元,将透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆载物台上晶圆的曝光区;当晶圆载物台从第一位置移动到第二位置,然后沿扫描方向的单方向扫描时,圆筒形掩膜板绕中心轴旋转,透过圆筒形掩膜板的光投射到晶圆上,对晶圆上的沿扫描方向排列的某一列曝光区进行曝光。进行曝光时,晶圆载物台不需要改变扫描方向,从而节省了曝光时间,提高了曝光效率。
搜索关键词: 圆筒 模板 系统 曝光 装置 方法
【主权项】:
一种圆筒形掩模板系统,其特征在于,包括:基座,固定于基座一侧的轴柄;第一轴承和第二轴承,第一轴承位于轴柄上靠近基座一端,第二轴承位于轴柄上远离基座一端,所述第一轴承和第二轴承均包括轴承外圈、轴承内圈和位于轴承外圈和轴承内圈之间的滚动体,第一轴承和第二轴承的轴承内圈固定于轴柄上;圆筒形掩模板,所述圆筒形掩模板为中空的圆柱,所述圆筒形掩模板包括位于中间的图像区域和位于图像区域的两边的非图像区域,所述图像区域上具有掩模板对准标记,圆筒形掩模板套在第一轴承和第二轴承的轴承外圈上,圆筒形掩模板的非图像区域的内表面与第一轴承和第二轴承的轴承外圈相接触,当第一轴承和第二轴承绕轴柄旋转时,圆筒形掩模板也一起绕轴柄旋转;预对准检测单元,位于圆筒形掩模板上方,通过一延伸装置与基座相连,用于检测圆筒形掩模板的图像区域上的掩模板对准标记,根据检测的信号判断圆筒形掩模板的装载状态和转动状态。
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