[发明专利]彩色膜层掩模板、彩色滤光片的制作方法及彩色滤光片有效
申请号: | 201310071229.X | 申请日: | 2013-03-06 |
公开(公告)号: | CN103135334A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 姜晶晶;黎敏;吴洪江;肖宇 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/32 | 分类号: | G03F1/32;G02F1/1335;G02F1/1339;G02B5/20 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 韩国胜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及薄膜晶体管液晶显示器的彩色滤光片领域,尤其是一种彩色膜层掩模板、彩色滤光片制作方法及彩色滤光片;该彩色膜层掩模板在其与柱状隔垫物基底对应透光区域设有光线调节结构;彩色滤光片制作方法,是通过彩色膜层掩模板上的光线调节结构对彩色膜层进行曝光处理,并对彩色膜层上与柱状隔垫物基底位置的曝光率进行调节,从而制成彩色滤光片;彩色滤光片保护膜层上的柱状隔垫物基底呈扁平状设置。本发明能够达到提高该柱状隔垫物基底区域平坦性的目的,消除由于基底的差异造成的柱状隔垫物实际形貌与设计之间存在的差异,改善彩色滤光片对盒后的支撑效果,提高了显示品质;能够提高柱状隔垫物的设计空间。 | ||
搜索关键词: | 彩色 膜层掩 模板 滤光 制作方法 | ||
【主权项】:
一种彩色滤光片制程中的彩色膜层掩模板,其特征在于,该彩色膜层掩模板上的透光区设有光线调节结构,该光线调节结构设置在与彩色膜层上柱状隔垫物基底相对应的位置。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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