[发明专利]用于晶体加工的水基金刚石抛光液有效

专利信息
申请号: 201310071571.X 申请日: 2013-03-07
公开(公告)号: CN104031560A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 张书达;张文刚 申请(专利权)人: 天津市乾宇超硬科技有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300384 天津市华苑产业*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明提供制备多种粒度的用于晶体加工的水基金刚石抛光液的方法,该抛光液适宜抛光多种晶体。使用高剪切乳化机,该设备的搅拌工作头直径不低于56mm,最高转速不低于15000rpm;使用黏度调节剂,制成不同黏度的抛光液以满足诸多用户的不同需求。本发明产品具有抛光、润滑、冷却、除屑等功能。它的成分:水、金刚石、润湿剂、表面活性剂、黏度调节剂、防锈剂、润滑剂、消泡剂、防腐杀菌剂和pH调节剂。用1um单晶金刚石抛光液抛光SiC晶体,抛光效率达0.08um/min,其表面粗糙度Ra由80nm经抛光后降至0.91nm;用0.125um多晶纳米金刚石抛光液抛光SiC晶体其表面粗糙度Ra可达0.1~0.3nm。
搜索关键词: 用于 晶体 加工 基金 刚石 抛光
【主权项】:
用于晶体加工的水基金刚石抛光液的制造方法,其特征在于:(1)它的组成成分:水85~98%,金刚石0.1~10%,润湿剂0.2~3%,表面活性剂0.1~5%,黏度调节剂0.01~5%,防锈剂0~1%,润滑剂1~8%,消泡剂0.0005~0.1%,防腐杀菌剂0.02~1%,pH调节剂逐滴加入,不计入总量;(2)成分中的金刚石包括:用静压触媒法制造的亚毫米级金刚石经破碎、整形、粒度分级和提纯净化后获得的微米级和亚微米级单晶金刚石微粉;用爆轰法(负氧平衡法)制造的单晶纳米金刚石;以及用爆炸法制造的多晶纳米金刚石;(3)制造工艺中使用:高剪切乳化机,该设备的搅拌工作头直径不低于56mm,最高转速不低于15000rpm。它可使金刚石颗粒之间的软团聚充分分散,使多种试剂混合均匀,并使金刚石颗粒均匀地分散稳定地悬浮在液体中,转速控制在10000~15000rpm,处理时间10~60min。
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