[发明专利]由氮等离子体处理的ITO膜及使用该ITO膜的有机电致发光设备有效
申请号: | 201310078245.1 | 申请日: | 2004-05-19 |
公开(公告)号: | CN103199201A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 孙世焕;姜旼秀;全相映;金钟杰 | 申请(专利权)人: | LG化学株式会社 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/52;H01L51/54 |
代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 朱梅;刘晔 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开了一种氧化铟锡(ITO)膜,其中通过氮与选自包括ITO构成元素In、Sn和O原子的组的至少一种原子反应而制备的含氮化合物,或沉淀的含氮的化合物存在于ITO膜的表面上;本发明还公开了一种制备ITO膜的方法,该方法包括使用氮等离子体处理ITO膜的表面的步骤。使用本发明提供的ITO膜作为阳极的有机电致发光设备显示出低电压、高效率和长寿命。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 处理 ito 使用 有机 电致发光 设备 | ||
【主权项】:
一种制备包含氧化铟锡的用于有机电致发光设备的阳极的方法,该方法包括以下步骤:使用氮等离子体处理氧化铟锡膜的表面,从而使该氧化铟锡表面的逸出功降低。
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