[发明专利]磁传感器制造在审

专利信息
申请号: 201310080431.9 申请日: 2013-03-13
公开(公告)号: CN103310804A 公开(公告)日: 2013-09-18
发明(设计)人: Q·何;丁元俊;M·W·科温顿;M·T·凯夫;陈永华 申请(专利权)人: 希捷科技有限公司
主分类号: G11B5/127 分类号: G11B5/127;H01L43/12
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 毛力
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种磁传感器,包括第一屏蔽、第二屏蔽以及第一屏蔽和第二屏蔽之间的传感器叠层,传感器叠层具有多个层,其中至少一个层使用原位快速热退火被退火。在磁传感器的一种实现中,使用原位快速热退火来对籽晶层进行退火。替代地,使用原位快速热退火来对势垒层、AFM层和覆盖层中的一个进行退火。
搜索关键词: 传感器 制造
【主权项】:
一种制造传感器叠层的方法,包括:使用原位快速热退火对所述传感器叠层的至少两个层进行退火。
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