[发明专利]一种测量杂散光的方法和系统

摘要

本发明提供一种测量杂散光的方法，其包括步骤如下：步骤S1：对位移平台初始化，步骤S2：设置测量系统的测量参数，步骤S3：驱动电机带动位移平台对照明光场区域进行扫描，利用点能量探测器对掩模面或硅片面上的一测试点进行光能量探测，将点能量探测器固定在测试点位置，调节可变狭缝的开口大小，得到同一测试点在可变狭缝不同开口大小的光能量值；步骤S4：对于照明光场区域内不同的测试点，重复步骤S3测量可变狭缝不同开口大小的不同光能量值；步骤S5：通过串口通信将光能量值数据存储到计算机中；由计算机对光能量值数据进行数据处理，得到掩模面或硅片面上的每一测试点的杂散光。本发明还提供一种测量杂散光的系统。

主权项

一种测量杂散光的方法，其特征在于：实现杂散光测量的步骤如下：步骤S1：位移平台初始化，初始化按照执行先后顺序找最佳焦面、找视场中心及方向、照明场视场方向校准、测量系统位置标定；步骤S2：设置测量系统的测量参数，测量参数包括测试面是选择硅片面和掩模面、相干因子设置、照明模式设置、可变狭缝参数设置和测试点参数设置；步骤S3：驱动电机带动位移平台对照明光场区域进行扫描，利用点能量探测器对掩模面或硅片面上的一测试点进行光能量探测，将点能量探测器固定在测试点位置，调节可变狭缝的开口大小，从而改变入射到掩模面或硅片面上的光场，可变狭缝的每一开口大小对应着一光能量值，得到同一测试点在可变狭缝不同开口大小的光能量值；步骤S4：对于照明光场区域内不同的测试点，重复步骤S3测量可变狭缝不同开口大小的不同光能量值；步骤S5：通过串口通信将光能量值数据存储到计算机中；由计算机对光能量值数据进行数据处理，得到掩模面或硅片面上的每一测试点的杂散光。