[发明专利]基于复合软模板纳米压印技术制备图案化蓝宝石衬底的方法

摘要

本发明提供了一种基于复合软模板纳米压印技术制备图案化蓝宝石衬底的方法，包括以下步骤：（1）在蓝宝石衬底上沉积一层二氧化硅作为湿法腐蚀掩膜；（2）在二氧化硅层上旋涂一层紫外光固化胶，利用复合软模板纳米压印方法将结构转移到胶层上；（3）利用ICP刻蚀方法去除残余层暴露出二氧化硅表面，并继续刻蚀将结构转移到二氧化硅层；（4）以二氧化硅层为掩膜用硫酸和磷酸混合液湿法腐蚀蓝宝石，最后用氢氟酸将二氧化硅层去除得到图案化蓝宝石衬底。本发明的优点在于利用了复合软模板纳米压印技术，相较于传统光刻方法，可以低成本、大面积的制备小尺度的图案；解决了腐蚀掩膜不规则和干法刻蚀蓝宝石成本高的问题，提高了LED的出光效率。

主权项

基于复合软模板纳米压印技术制备图案化蓝宝石衬底的方法，其特征在于：包括如下步骤：（1）在蓝宝石衬底上沉积一层湿法腐蚀掩膜层，厚度在50nm～200nm；（2）在湿法腐蚀掩膜层上旋涂一层紫外光固化胶，然后将图案化的软模板贴合紫外光固化胶，并置于N2气氛下曝光10分钟使胶固化，将软模板的图案转移到紫外光固化胶上，脱去软模板，得到固化的胶层；（3）刻蚀胶层暴露出湿法腐蚀掩膜层，并继续刻蚀掩膜层至暴露出蓝宝石衬底；（4）将步骤（3）得到的结构放在硫酸和磷酸的混合溶液中，在250℃～300℃下湿法腐蚀15分钟～30分钟，取出蓝宝石衬底，用氢氟酸去除掩膜层，并用丙酮、乙醇和去离子水分别清洗后得到图案化的蓝宝石衬底。