[发明专利]一种多层金属光栅的制备方法无效

专利信息
申请号: 201310081929.7 申请日: 2013-03-14
公开(公告)号: CN103149615A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: 叶志成 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G03F7/00
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 张泽纯
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种多层金属光栅的制备方法,包括步骤:制备或选取压印模板;在衬底上表面旋涂压一层压印胶;在压印胶的表面镀一金属层;在金属层上表面涂一层保护膜;将压印模板放置在保护膜上表面进行纳米压印;对压印胶进行固化处理后,移去压印模版,得到双层或多层金属光栅。本发明不仅省略了图形转移的步骤,工艺更简单,成本更低廉,而且由上述方法得到的金属膜不会包覆于图形侧壁而影响透射效率,其截面与压印模具截面形貌严格吻合,与采用传统方法相比,图形的保真度和光栅的TM透射率及偏振抑制比都更高。
搜索关键词: 一种 多层 金属 光栅 制备 方法
【主权项】:
一种多层金属光栅的制备方法,其特征在于,该方法包括如下步骤:1)制备或选取压印模板;2)在衬底上表面旋涂压一层压印胶;3)在压印胶的表面镀一金属层;4)在金属层上表面涂一层保护膜;5)将压印模板放置在保护膜上表面进行纳米压印;6)对压印胶进行固化处理后,移去压印模具。
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