[发明专利]石墨膜及石墨复合膜有效
| 申请号： | 201310087420.3 | 申请日： | 2008-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN103144387A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 太田雄介;若原修平;西川泰司 | 申请（专利权）人： | 株式会社钟化 |
| 主分类号： | B32B27/06 | 分类号： | B32B27/06;B32B9/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣;陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种石墨膜及石墨复合膜，其兼备优良热扩散性、及在弯曲部分能经得住使用的优良耐弯曲性，从而能够充分解决电子设备、精密设备等的散热问题。采用扫描式电子显微镜，在5kV的加速电压下对所述石墨膜进行表面观察，以能够观察该石墨膜的表面的折皱的方式调节亮度、对比度、焦距，按640×480摄入倍率为400倍的表面SEM图像，对于所述表面SEM图像，使用通用图像处理软件实施浓度测定，得到测定值从最小值0到最大值255为止的图像，对该图像按通过下式决定的阈值进行黑白二值化，即阈值＝（最大值－最小值）×0.62，进而将被二值化了的该图像的白色区域按线宽为1进行细线化后，所得到的图像的白色区域的面积为1.0%以上且8.5%以下。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨 复合 | ||
【主权项】：
一种石墨膜，其特征在于：采用扫描式电子显微镜，在5kV的加速电压下对所述石墨膜进行表面观察，以能够观察该石墨膜的表面的折皱的方式调节亮度、对比度、焦距，按640×480摄入倍率为400倍的表面SEM图像，对于所述表面SEM图像，使用通用图像处理软件实施浓度测定，得到测定值从最小值0到最大值255为止的图像，对该图像按通过下式决定的阈值进行黑白二值化，即阈值＝（最大值－最小值）×0.62 （1）进而将被二值化了的该图像的白色区域按线宽为1进行细线化后，所得到的图像的白色区域的面积为1.0%以上且8.5%以下。
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