[发明专利]高纯石墨催化条件下纳米铝片阵列的制备方法

摘要

高纯石墨催化条件下纳米铝片阵列的制备方法，它涉及一种纳米铝片阵列的制备方法。本发明解决了现有制备纳米铝片及其阵列的方法所得产品尺寸不均匀，厚度难以控制的技术问题。本发明方法如下：一、将铝片放入石英管中保温；二、制备混合液；三、乳状悬浮液；四、将高纯石墨放入步骤三所得乳状悬浮液中，形成均匀的悬浮液；五、将步骤四所得悬浮液置入水热反应釜中，将经过步骤一处理的铝片放入步骤五的水热反应釜中反应，干燥，即得纳米铝片阵列。本发明利用高纯天然鳞片石墨在水热条件下表面的反应活性，并添加表面活性剂，从而使得在制备纳米铝片的同时形成其阵列结构(纳米铝片的厚度可控制在20～50纳米)。

主权项

高纯石墨催化条件下纳米铝片阵列的制备方法，其特征在于高纯石墨催化条件下纳米铝片阵列的制备方法按照以下步骤进行：一、将铝片放入石英管中，再将石英管真空密封后，以5～10℃/分的速度升温到500℃，在500℃保温1h；二、取0.8～1.6ml氨水、8～16ml无水乙醇和8～12ml蒸馏水，在室温条件下搅拌、混合30分钟，调节pH值为9，得到混合液；三、将0.1～0.8ml去水山梨糖醇单油酸酯滴入步骤二所得混合液中，在室温下以150～250转/分的速度搅拌1h，形成均匀的乳状悬浮液；四、将0.1～0.2g高纯石墨放入步骤三所得乳状悬浮液中，搅拌30分钟，形成均匀的悬浮液；五、将步骤四所得悬浮液置入水热反应釜中，悬浮液的加入量为反应釜体积的4/5；六、将经过步骤一处理的铝片放入步骤五的水热反应釜中，密封，在120～180℃条件下保温12～24h，洗涤水热反应后的铝片至洗液的pH值为6～8，干燥，即得纳米铝片阵列。