[发明专利]抗激光损伤铌酸锂三波段减反射膜的制作方法

摘要

本发明提出的一种抗激光损伤铌酸锂三波段减反射膜的制作方法，利用本方法，可显著地提高光参量振荡中红外激光器中铌酸锂减反射膜的激光损伤阈值，承受100毫焦量级的1065nm激光，保证激光器稳定工作。本发明通过下述技术方案予以实现以中红外薄膜材料为基础选择薄膜材料，选取ZnS作为高折射率材料，在CaF2、YF3、YbF3中筛选低折射率材料，以1065nm为膜系设计参考波长，在计算机上，设计出三波段减反射膜；使用全自动镀膜机，制作出该镀膜机自动控制用的模板控制文件；根据材料实验结果对石英晶振定标，镀膜机内装入选定的镀膜材料，按选定的模板控制文件自动完成在铌酸锂上制作近、中红外波段具有高的激光损伤阈值的三波段减反射膜减反射膜的制作。

主权项

一种抗激光损伤铌酸锂三波段减反射膜的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）确定理论膜系，以光学干涉薄膜理论为膜系结构为基础，选取ZnS作为高折射率材料，氟化镱YbF3为低折射率材料，以600nm为减反射膜为参考波长，分别定义ZnS、Al2O3和YbF3在λ/4的单位光学厚度为H、M和L，在减反射膜基底表面增加一层Al2O3层，作为应力匹配和抗激光损伤层，在计算机上，使用膜系设计软件，根据1065nm、1400‑1600nm、3000‑4000nm三个段减反射膜减反射要求，确定铌酸锂减反射膜的膜系结构；对1040‑1080nm、1400‑1600nm、3000‑4000nm的残余反射率建立设计目标函数，设反射率R(λi)理想波长点的反射率，残余反射率R’(λi)为理论波长点的残余反射率，wi为任意波长点权重，则平方和Σwi (R(λi)‑R’(λi))2为优化评价函数，三个波长上理论目标反射率为0，权重wi统一设为1，近红外投点密度为5nm，中红外投点密度为40nm；（2）使用具有石英晶体振荡膜厚控制仪、基于组态软件和PLC硬件控制的全自动镀膜机，根据上述获得的理论膜系结构，制作出该镀膜机自动控制用的模板控制文件；（3）在镀膜机内装入选定的镀膜材料，采用阻蒸和电子枪混合蒸发的沉积方式，镀膜机按选定的模板控制文件，自动完成减反射膜的制作。