[发明专利]一种高纯电镀级氧化铜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201310095033.4 申请日: 2013-03-22
公开(公告)号: CN104058445A 公开(公告)日: 2014-09-24
发明(设计)人: 周华梅;陈立高;付海涛;陈培峰;程凡雄;石新红 申请(专利权)人: 上海美维科技有限公司
主分类号: C01G3/02 分类号: C01G3/02
代理公司: 上海开祺知识产权代理有限公司 31114 代理人: 竺明
地址: 201613 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种高纯电镀级氧化铜的制备方法,以酸性蚀刻废液为原料,在制得氧化铜粗品的基础上,通过添加氧化剂处理有机物,进行二次纯化方法获得高纯电镀级氧化铜粉。所制备的氧化铜纯度可达99.0wt%以上、各种金属和非金属杂质含量低、溶解速率快,小于30s。使用电镀填孔药水进行填孔,其下凹均小于5微米,能广泛应用于各种电镀场合。
搜索关键词: 一种 高纯 电镀 氧化铜 制备 方法
【主权项】:
一种高纯电镀级氧化铜的制备方法,以酸性蚀刻废液为原料,在制得氧化铜粗品的基础上,通过添加氧化剂处理有机物,进行二次纯化方法获得高纯电镀级氧化铜粉;所获得的高纯电镀级氧化铜,其纯度在99.0wt%以上,其溶解速率在30s以下。
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