[发明专利]金属硫属化物薄膜的制备方法有效
申请号: | 201310102517.7 | 申请日: | 2013-03-27 |
公开(公告)号: | CN103194729A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 张广宇;时东霞;张菁 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/46;C23C16/52 |
代理公司: | 北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙) 11391 | 代理人: | 范晓斌;郭海彬 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种金属硫属化物薄膜的制备方法,用于用硫族元素源和金属元素源以气相沉积的方式在基片上生长出金属硫属化物薄膜,包括:提供能够分别独立控温的三个温度区域;其中,所述硫族元素源、金属元素源、基片分别放置在所述三个温度区域;控制三个温度区域,使得所述硫族元素源蒸发以产生硫族元素源蒸汽;所述金属元素源蒸发以产生金属元素源蒸汽以及加热所述基片至预定沉积温度;提供载气并使其顺序流过所述三个温度区域,从而将所述硫族元素源蒸汽与所述金属元素源蒸汽载送至基片上沉积并生长形成所述金属硫属化物薄膜。本发明方法简单,制备的薄膜质量较高,避免了繁琐的先期人工引入形核点步骤,有效保证样品的纯度以及表面的清洁。 | ||
搜索关键词: | 金属 硫属化物 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种金属硫属化物薄膜的制备方法,用于用硫族元素源和金属元素源以气相沉积的方式在基片上生长出金属硫属化物薄膜,包括:提供能够分别独立控温的第一温度区域、第二温度区域和第三温度区域;其中,所述硫族元素源放置在所述第一温度区域,所述金属元素源放置在所述第二温度区域,所述基片放置在所述第三温度区域;控制所述第一温度区域达到第一预定温度以加热所述硫族元素源,使得所述硫族元素源蒸发以产生硫族元素源蒸汽;控制所述第二温度区域达到第二预定温度以加热所述金属元素源,使得所述金属元素源蒸发以产生金属元素源蒸汽;控制所述第三温度区域达到第三预定温度以加热所述基片;提供载气并使其顺序流过所述第一温度区域、所述第二温度区域和所述第三温度区域,从而将所述硫族元素源蒸汽与所述金属元素源蒸汽载送至第三温度区域,并在所述基片上沉积并生长形成所述金属硫属化物薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院物理研究所,未经中国科学院物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310102517.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:舒适、使用寿命长的货车
- 下一篇:多刀加工阀门阀体数控双滑块动力头
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的