[发明专利]复式轨道双对称可分离腔体磁控溅射镀膜设备无效
| 申请号： | 201310104262.8 | 申请日： | 2013-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN103147057A | 公开（公告）日： | 2013-06-12 |
| 发明（设计）人： | 田秋丽 | 申请（专利权）人： | 有度功能薄膜材料扬州有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 江苏银创律师事务所 32242 | 代理人： | 何震花 |
| 地址： | 225800 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种复式轨道双对称可分离腔体磁控溅射镀膜设备，包括镀膜腔体单元。镀膜腔体单元由左右对称的左腔体和右腔体组成，左腔体和右腔体分别构成独立的镀膜腔；镀膜腔包括靶材架和基片架；左腔体和右腔体的基片架位于镀膜腔体单元的中间，中间通过隔板隔开；左腔体和右腔体的靶材架位于镀膜腔体单元的外侧；靶材架上安装有开合装置。镀膜腔体单元还可以进一步包括滑轨，靶材架可以沿着滑轨移动。本发明通过结构化组件设计使得本发明安装非常方便。本发明的镀膜腔可以侧向打开，从而非常方便地实现镀膜腔内部的维护保养。本发明还可以将多个镀膜腔体单元组成连续镀膜设备。 | ||
| 搜索关键词： | 复式 轨道 对称 可分离 磁控溅射 镀膜 设备 | ||
【主权项】：
复式轨道双对称可分离腔体磁控溅射镀膜设备，包括镀膜腔体单元，其特征在于，镀膜腔体单元由左右对称的左腔体和右腔体组成，左腔体和右腔体分别构成独立的镀膜腔；镀膜腔包括靶材架和基片架；左腔体和右腔体的基片架位于镀膜腔体单元的中间，中间通过隔板隔开；左腔体和右腔体的靶材架位于镀膜腔体单元的外侧；靶材架上安装有开合装置。
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