[发明专利]一种匀胶铬版制造工艺有效
| 申请号： | 201310104872.8 | 申请日： | 2013-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN103235481A | 公开（公告）日： | 2013-08-07 |
| 发明（设计）人： | 石孟阳;熊波;谢庆丰;庄奎乾 | 申请（专利权）人： | 深圳市科利德光电材料股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/60 | 分类号： | G03F1/60;G03F1/68 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人： | 潘中毅 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明匀胶铬版制造工艺包括以下步骤：镀膜，提供玻璃板并在玻璃板上生成氮化铬/氮氧化铬膜层形成铬膜基版；切割，根据所要形成的匀胶铬版的尺寸，切割铬膜基版形成多个小尺寸的铬膜基版；清洗，清洁切割后的小尺寸的铬膜基版，去除表面的灰尘、污渍；涂胶，在清洗后的小尺寸的铬膜基版的氮化铬/氮氧化铬膜层上涂覆光刻胶，由于采用先镀膜后切割的方式，玻璃板数量远小于相对切割后数量，可以利用现有镀膜机快速高效地进行镀膜，而且可利用现有镀膜设备，无需额外改进，成本更低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 匀胶铬版 制造 工艺 | ||
【主权项】：
一种匀胶铬版制造工艺，包括以下步骤：镀膜，提供玻璃板并在玻璃板上生成氮化铬/氮氧化铬膜层形成铬膜基版；切割，根据所要形成的匀胶铬版的尺寸，切割铬膜基版形成多个小尺寸的铬膜基版；清洗，清洁切割后的小尺寸的铬膜基版，去除表面的灰尘、污渍；涂胶，在清洗后的小尺寸的铬膜基版的氮化铬/氮氧化铬膜层上涂覆光刻胶。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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