[发明专利]曝光装置、曝光装置的控制方法和器件制造方法有效
| 申请号： | 201310106051.8 | 申请日： | 2013-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN103365115A | 公开（公告）日： | 2013-10-23 |
| 发明（设计）人： | 坂本宪稔 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 魏小薇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供曝光装置、曝光装置的控制方法和器件制造方法。提供一种经由光学系统将基板上的抗蚀剂曝光的曝光装置。曝光装置包括：台子，被配置为在保持基板时将基板定位于曝光位置处；获得单元，被配置为获得从在基板上形成的对准标记到抗蚀剂表面的距离以及抗蚀剂表面的倾斜度；以及控制单元，被配置为使用所述距离和倾斜度计算用于校正曝光位置的偏移的校正值，并且根据校正值控制所述台子的位置，所述曝光位置的偏移是在为了减少抗蚀剂表面的倾斜而进行台子的倾斜校正时发生的。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 控制 方法 器件 制造 | ||
【主权项】：
一种经由光学系统将基板上的抗蚀剂曝光的曝光装置，该曝光装置包括：台子，被配置为在保持基板时将基板定位于曝光位置处；获得单元，被配置为获得从在基板上形成的对准标记到抗蚀剂表面的距离以及抗蚀剂表面的倾斜度；以及控制单元，被配置为使用所述距离和倾斜度计算用于校正曝光位置的偏移的校正值，并且根据校正值控制所述台子的位置，所述曝光位置的偏移是在为了减少抗蚀剂表面的倾斜而进行所述台子的倾斜校正时发生的。
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