[发明专利]氮化物发光二极管及制作方法无效
| 申请号： | 201310108094.X | 申请日： | 2013-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN103208568A | 公开（公告）日： | 2013-07-17 |
| 发明（设计）人： | 林文禹;叶孟欣;钟志白 | 申请（专利权）人： | 厦门市三安光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/10 | 分类号： | H01L33/10;H01L33/22;H01L33/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 361009 福建省厦*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种氮化物发光二极管，其包括：衬底，表面具有次微米图案，定义为生长区和非生长区；生长阻隔层，形成于所述衬底的非生长区，用于阻挡衬底非生长区的外延生长；发光外延层，形成于所述衬底的生长区并通过横向外延向所述非生长区延伸，覆盖所述生长阻隔层，包括n型层、发光层和p型层；其中，所述生长阻隔层的折射率小于发光外延层的折射率，且顺着所述衬底的次微米图案形成高低起伏之形貌，从而在增加发光二极管的取光界面的同时，提供发光外延层与取光界面的折射系数差异，提高取光效率。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化物 发光二极管 制作方法 | ||
【主权项】：
氮化物发光二极管，包括：衬底，表面具有次微米图案，定义为生长区和非生长区；生长阻隔层，形成于所述衬底的非生长区，用于阻挡衬底非生长区的外延生长； 发光外延层，形成于所述衬底的生长区并通过横向外延向所述非生长区延伸，覆盖所述生长阻隔层，包括n型层、发光层和p型层； 其中，所述生长阻隔层的折射率小于发光外延层的折射率，且顺着所述衬底的次微米图案形成高低起伏之形貌，从而在增加发光二极管的取光界面的同时，提供发光外延层与取光界面的折射系数差异。
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