[发明专利]一种抑制半波孔的倍频分束薄膜有效

专利信息
申请号: 201310108420.7 申请日: 2013-04-01
公开(公告)号: CN103235355A 公开(公告)日: 2013-08-07
发明(设计)人: 鲍刚华;程鑫彬;宋智;焦宏飞;王占山 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;B32B33/00
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 张磊
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于薄膜光学领域,具体涉及一种抑制半波孔的倍频分束薄膜,主要针对倍频分束镜中影响半波孔的两个关键因素——薄膜厚度误差和材料非均质性,通过在高低折射率材料之间增加导纳匹配层,抑制薄膜厚度误差和材料非均质性对半波孔的影响;导纳匹配层可以用矢量法很容易的得到。常规薄膜设计软件无法设计和分析非均质性薄膜,加上厚度误差无法避免,因此当前设计倍频分束薄膜的主流方法是回避半波孔。该发明将非均质性薄膜的厚度优化计算转换成均匀薄膜的厚度优化计算,利用常规薄膜设计软件即可完成设计;该发明直接针对半波孔进行设计和优化,不再回避半波孔,具有理想的透射带宽。该发明具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
搜索关键词: 一种 抑制 半波孔 倍频 薄膜
【主权项】:
一种抑制半波孔的倍频分束镜薄膜,其特征在于薄膜的基本周期结构为:aL/AR1/bH/AR2/cL,其中:AR1为L/H薄膜界面的导纳匹配层,AR2 为H/L薄膜界面的导纳匹配层;H、L分别代表高低折射率材料在基频波长的四分之一光学厚度,a、b、c为四分之一波长光学厚度的倍数;基本周期的总厚度为基频的半波光学厚度;L/H薄膜界面的导纳匹配层和H/L薄膜界面的导纳匹配层制得方法相同,AR1的制备方法为:将与AR1相邻的L膜层界面的折射率标为nL,H膜层界面的折射率标为nH;以折射率为nL的介质为入射介质,折射率为nH的介质为出射介质,利用矢量法,得到AR1,使得光从入射介质穿过AR1和出射介质后,能量不损失,即透射率为100%。
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