[发明专利]样品支持器

摘要

本发明是有关于一种样品支持器，可改善在利用等离子化学气相沉积法的成膜处理步骤中，形成在基板上的薄膜的膜厚分布。本发明的样品支持器被储存在等离子处理装置中，且样品支持器被安装在与呈梳齿状配置的电极对向的位置；且样品支持器具有搭载面，该搭载面沿着定义搭载处理对象的基板的搭载区域的垂直方向延伸，且搭载面的外缘的角部被进行C修角或R修角。

主权项

一种样品支持器，所述样品支持器被储存在等离子处理装置中，且所述样品支持器被安装在与呈梳齿状配置的电极对向的位置，所述样品支持器的特征在于：所述样品支持器具有搭载面，所述搭载面定义搭载处理对象的基板的搭载区域，且所述搭载面的外缘的角部被进行C倒角或R倒角。