[发明专利]含氟芳烃衍生物的选择性氢化还原方法

摘要

本发明公开了一种含氟芳烃衍生物的选择性氢化还原方法，具体地，公开了通式C1、C2或C3所示化合物的制备方法，该方法包括步骤在催化剂存在下，将通式A1、A2或A3所示化合物与通式B所示化合物进行反应，从而形成通式C1、C2或C3所示化合物。

主权项

一种通式C1、C2和C3所示化合物的制备方法，其特征在于，该方法包括步骤：在催化剂存在下，将通式A1、A2或A3所示化合物与通式B所示化合物进行反应，从而形成通式C1、C2或C3所示化合物：式中，X为N或CR4；R4为H、卤素原子、氰基、硝基、氨基、‑NH‑C1‑10烷基、‑C≡C‑C1‑10烷基、‑C＝C‑PO2OC1‑10烷基、‑C＝C‑COOC1‑10烷基、‑COOC1‑10烷基、C1‑10烷基、C1‑10烷氧基、卤代的C1‑10烷基、卤代的C1‑10烷氧基、‑CONR9R10、C1‑10烷基‑羰基或甲酰基、苯基、卤代苯基、苄基、卤代苄基；R9、R10各自独立选自：取代或未取代的苯基、取代或未取代的C1‑4烷基、取代或未取代的C1‑4烷氧基；其中，所述R4、R9、R10中，各基团定义中所述的“取代”指基团中一个或多个H被选自下组的取代基所取代：卤素原子、氰基、硝基、C1‑4烷基、C1‑4卤代烷基、C1‑4烷氧基、氨基、C1‑4烷基胺基、C1‑4烷基‑羰基、C1‑4烷氧基‑羰基、C1‑4烷基胺基‑羰基或苯基胺基‑羰基；R1、R1'、R2和R3各自独立地选自：H、氰基、硝基、卤素原子、氨基、‑NH‑C1‑10烷基、‑N(C1‑10烷基)2、C1‑10烷基、卤代的C1‑10烷基、C2‑10烯基、卤代的C2‑10烯基、C2‑10炔基、被卤素原子和/或苯基所取代的C2‑10炔基、C1‑10烷氧基、卤代的C1‑10烷氧基、‑CONR9R10、‑COOC1‑10烷基、C1‑10烷基‑羰基、甲酰基、‑C＝C‑COOC1‑10烷基；Y为取代或未取代的5元或6元杂环、8元至12元杂芳二环环系、嘌呤基团、核苷基团、‑NH‑R8、‑NH‑NH‑R8、‑C＝N‑R8、‑N＝N‑R8、‑N‑CO‑R8或‑COO‑R8或‑CO‑R8；其中R8为H、氰基、硝基、卤素原子、C1‑10烷基、卤代的C1‑10烷基、C2‑10烯基、卤代的C2‑10烯基、C2‑10炔基、卤代的C2‑10炔基、‑COOC1‑10烷基、C1‑10烷基‑羰基、苯基、‑C＝C‑COOC1‑10烷基、苄基，或被一个或多个选自下列取代基取代的苯基：卤素原子、C1‑6烷基、C1‑6烷氧基、‑CONR9R10、‑COOC1‑10烷基、C1‑10烷基‑羰基或甲酰基；R5、R6和R7各自独立地选自：取代或未取代的苯基、取代或未取代的C1‑4烷基、取代或未取代的C1‑4烷氧基；其中，所述Y、R5、R6和R7中，各基团定义中所述的“取代”指基团中一个或多个H被选自下组的取代基所取代：卤素原子、氰基、硝基、C1‑4烷基、C1‑4卤代烷基、C1‑4烷氧基、氨基、C1‑4烷基胺基、C1‑4烷基‑羰基、C1‑4烷氧基‑羰基、C1‑4烷基胺基‑羰基或苯基胺基‑羰基；其中，所述催化剂选自以下的(a)组、(b)组、(c)组或(d)组：(a)镍催化剂与锌粉的组合；(b)钯催化剂；(c)镍催化剂、锌粉与配体的组合，或；(d)钯催化剂与配体的组合；其中，所述镍催化剂选自下组中的一种或多种：NiM2、Ni(dppp)Cl2、Ni(dppf)Cl2、Ni(dppb)Cl2、Ni(dppe)Cl2、Ni(dppm)Cl2、Ni(PPh3)2Cl2、NiCl2·6H2O和二乙酰丙酮镍；所述钯催化剂选自下组中的一种或多种：PdM2、Pd(MeCN)2Cl2、Pd(PhCN)2Cl2、Pd(dppf)Cl2、Pd(dppe)Cl2、Pd(dppb)Cl2、Pd(dppp)Cl2、Pd(dppm)Cl2、Pd(PPh3)2Cl2、Pd(PPh3)4、Pd2(dba)3和(η3‑C3H5)2Pd2Cl2；其中，M为醋酸根、三氟醋酸根、三氟甲磺酸根、特戊酸根或卤素原子离子；所述的配体为单齿膦配体、双齿膦配体或双齿氮配体；并且，所述反应在存在碱的情况下进行，所述碱为三乙胺、二异丙基乙基胺、二乙胺、哌啶、哌嗪、吗啉、N‑甲基吗啉、三乙烯二胺、1,8‑二氮杂二环[5.4.0]十一碳‑7‑烯、1,5‑二氮杂二环[4.3.0]壬‑5‑烯、碳酸钾、碳酸氢钾、碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸铯、磷酸钠、磷酸钾、氢氧化钠、氢氧化钾、甲醇钠、乙醇钠，或其组合；当R1不为氟原子时，R1和R1'相同；当R1为氟原子时，R1'为H或氟原子。